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  • 產品名稱:三靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:CY-600-3HD
  • 產品廠商:发彩网科儀
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簡單介紹:
產品簡介:CY-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研製開發的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀,可用於製備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便於操作的優點,是一款實驗室製備材料薄膜的理想設備,特別適用於實驗室研究固態電解質及OLED等。 
詳情介紹:

產品簡介:CY-600-3HD三靶磁控濺射儀是我公司自主研製開發的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀,可用於製備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便於操作的優點,是一款實驗室製備材料薄膜的理想設備,特別適用於實驗室研究固態電解質及OLED等。 

產品型號

三靶磁控濺射儀CY-600-3HD

安裝條件

 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純淨水或者去離子水)

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥

4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

5、通風裝置:需要

主要特點

1、配置三個靶槍,一個配套射頻電源用於非導電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用於導電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據客戶需要任意調換)。

2、可製備多種薄膜,應用廣泛。

3、體積小,操作簡便。

4、整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控製電源分體式設計,可根據用戶實際需要調整購買需求。

5、可根據用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控製多個靶槍,也可多個電源單一控製靶槍。

技術參數

1、電源電壓:220V   50Hz

2、總功率:2.5KW

3、極限真空度:<  E-6mbar(配合本公司設備使用可達到 E-5mbar)

4、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據實際需要提升溫度)

5、靶槍數量:3個

6、靶槍冷卻方式:水冷

7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)

8、直流濺射功率:500W(可選)

9、射頻濺射功率:300W/500W(可選)

10、載樣台:Ø140mm

11、載樣台轉速:1rpm-20rpm內可調

12、保護氣體:Ar、N2等惰性氣體

13、進氣氣路:質量流量計控製2路進氣,每個流量為100SCCM

產品規格

主機尺寸:500mm×560mm×660mm,整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

標準配件

1

直流電源控製係統

2套

2

射頻電源控製係統

1套

3

膜厚監測儀係統

1套

4

600分子泵

1台

5

工業級水冷

1台

6

冷卻水管(Ø6mm)

4根

可選配件

金、銦、銀、白金等各種靶材