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  • 產品名稱:單靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:CY-600-1HD
  • 產品廠商:发彩网科儀
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簡單介紹:
本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源)。單靶磁控濺射鍍膜儀在鍍膜時,可根據需要分別手工連接至直流濺射電源、偏壓電源及RF濺射電源。還可根據客戶需要配置可旋轉樣品台、加熱型樣品台、多功能樣品台,整機性價比高,是製作各種金屬(或非金屬)薄膜理想的鍍膜設備,可選配各種金屬靶材和真空係統。我公司還可根據客戶具體需要定製單靶磁控濺射鍍膜儀。
詳情介紹:

本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源)。鍍膜時,可根據需要分別手工連接至直流濺射電源、偏壓電源及RF濺射電源。還可根據客戶需要配置可旋轉樣品台、加熱型樣品台、多功能樣品台,整機性價比高,是製作各種金屬(或非金屬)薄膜理想的鍍膜設備,可選配各種金屬靶材和真空係統。
技術參數

1、輸入電源:220VAC 50/60Hz

2、濺射電流:0-150 mA可調

3、整機功率:<2KW

4、輸出電壓:≦上限值1600VDC

5、濺射腔體:采用石英腔體,尺寸:166mm OD x 150mm ID x 290mm H

6、真空密封:采用O形密封圈密封

7、磁控靶:2英寸帶水冷的磁控濺射頭,也可根據需要選配1英寸磁控靶

8、樣品台:直徑50mm不鏽鋼樣品台,樣品台可旋轉,旋轉速率0-5 RPM ,並設計有手動操作的濺射擋板,樣品台和靶頭之間的距離可以調節,調節範圍:30-80mm

9、配有靶頭支架,可以在非濺射狀態時放置濺射靶頭

10、濺射麵積:4英寸

11、真空係統:安裝有KF25真空接口,數字真空壓力表(Pa),此係統運行需要Ar氣,並且氣瓶上安裝有減壓閥(設備中不包含),可根據客戶具體需要選配各種真空泵,按實際供貨計費。 

12、進氣:含一個控製進氣的針閥和一個放氣閥本設備接氣需要安裝減壓閥(可在我公司選購減壓閥)

13、靶材尺寸要求:Φ50mmx(0.1-2.5) mm(厚度),適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Ti,等金屬(可在我公司選購)對於濺射各種金屬靶材,需要摸索*理想的濺射參數,下表是本公司實驗所設置的參數

靶材種類

真空度(Pa

濺射電流(mA

時間(s

濺射次數

Au

31-33

28-30

100

1

Ag

31

28

100

1

14、有時為了達到理想的薄膜厚度,需要多次濺射鍍膜。在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品台的潔淨要達到薄膜與基底良好結合,請在濺射前用超聲波清洗基材表麵。

15、基材清洗方式

(1)丙酮超聲清洗→異丙醇超聲清洗去除油脂→吹氮氣幹燥→真空烘箱除去水分

(2)等離子清洗:可表麵粗糙化,可激活表麵化學鍵,可祛除額外的汙染物製造一個薄的緩衝層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應用於改善金屬和合金的附著力此濺射鍍膜機可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射。