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  • 產品名稱:電子束蒸發鍍膜儀

  • 產品型號:CY-EB
  • 產品廠商:发彩网科儀
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簡單介紹:
電子束蒸發鍍膜儀係統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱台、工作氣路、抽氣係統、真空測量、電控係統及安裝機台等部分組成。電子束蒸發鍍膜儀可以廣泛應用於製備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。
詳情介紹:

電子束蒸發鍍膜儀設備用途:

用於製備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等,廣泛應用於大專院校、科研機構的科研及小批量生產。

電子束蒸發鍍膜儀技術參數:

結構形式

真空室采用U型箱體前開門,後置抽氣係統

真空室

500×500×600mm2

真空係統配置

複合分子泵、機械泵、閘板閥

極限壓力

≤6. 67×10-5Pa (經烘烤除氣後);

恢複真空時間

45分鍾可達到6. 67×10-4Pa (係統短時間暴露大氣並充幹燥 氮氣後

 

電子束

蒸發源

e型電子槍

陽極電壓:6kv8kv;

數量(套)

1

坩堝

水冷式坩堝,四穴設計,每個容量11ml

功率

06 KW可調

電阻蒸發源 (可選

電壓

510V

功率

電流300A*大輸出功率3KW

數量

1套,可切換

水冷電極

3根,組成2個蒸發舟

工件架類型及尺寸

基片尺寸:可放置4”基片加熱zui高溫度800±1 ,基片可連續回轉,轉速5~60/ 基片與蒸發源之間距離300~350mm可調手動控製樣品擋板組件1

氣路係統

200SCCM質量流量控製器1

石英晶振膜厚控製儀

監測膜厚顯示範圍:0~99 u 9999A;

設備占地麵積

主機

900×800mm2

電控櫃

800×800mm2 (兩個

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