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  • 產品名稱:激光鍍膜設備

  • 產品型號:CY-LDE
  • 產品廠商:发彩网科儀
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簡單介紹:
激光鍍膜設備係統由真空腔室(主濺射室、進樣室)、樣品傳遞機構、樣品架、旋轉靶台、真空排氣、真空測量、電器控製、配氣、計算機控製等各部分組成。激光鍍膜設備廣泛應用於大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量製備。
詳情介紹:

激光鍍膜設備用途:

激光鍍膜設備用於生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料,適用於生長高熔點、多元素及含有氣體元素的複雜層狀超晶格薄膜材料。廣泛應用於大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量製備。

激光鍍膜設備技術參數:

主真空室

球型結構,尺寸Ø 450mm

進樣室

圓筒型立式結構,尺寸Ø 150x 150mm

真空係統配置

主真空室

分子泵與機械泵,閥門

進樣室

分子泵與機械泵(與主真空室共用),閥門

極限壓力

主真空室

≦6*10-6Pa(經烘烤除氣後)

進樣室

≦6*10-3Pa(經烘烤除氣後)

恢複真空時間

主真空室

20分鍾可達到5*10-3Pa(係統短時間暴露大氣並充幹燥氮氣開始抽氣)

進樣室

20分鍾可達到5*10-3Pa(係統短時間暴露大氣並充幹燥氮氣開始抽氣)

旋轉靶台

靶材*大尺寸約60mm;可一次安裝4塊靶材,可實現公轉換靶;每塊靶材可自轉,轉速5~60轉/分

 

基片加熱台

樣品尺寸

Ø51

運動方式

基片可連續回轉,轉速5~60轉/分

加熱溫度

基片加熱zui高溫度800C±1  C,可控可調

氣路係統

質量流量控製器1路,充氣閥1路

可選部件

激光器裝置

配相幹201激光器

激光束掃描裝置

二維掃描機械平台,執行兩自由度掃描

計算機控製係統

控製的內容主要有公轉換靶,靶自轉,樣品自轉、樣品控溫、激光束掃描等

設備占地麵積

主機

1800 * 1800mm2

電控櫃

700 *700mm2(1個)

 

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