產品詳情
  • 產品名稱:磁控濺射/真空蒸發複合型鍍膜設備

  • 產品型號:CY-MSE300S-DC
  • 產品廠商:发彩网科儀
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簡單介紹:
磁控濺射/真空蒸發複合型鍍膜設備將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備裏,既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出並部分離化沉積在基材上成膜,同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融並讓其汽化再沉積在基材上成膜。增加了設備的用途和靈活性。該設備應用於手機殼等塑料表麵金屬化,應用於不導電膜和電磁屏蔽膜沉積。
詳情介紹:

磁控濺射/真空蒸發複合型鍍膜設備將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備裏,既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出並部分離化沉積在基材上成膜,同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融並讓其汽化再沉積在基材上成膜。增加了設備的用途和靈活性。該設備應用於手機殼等塑料表麵金屬化,應用於不導電膜和電磁屏蔽膜沉積。

磁控濺射/真空蒸發複合型鍍膜設備配置了等離子體處理裝置,高效磁控濺射陰極和電阻蒸發裝置等,設備沉積速率快,鍍層附著力好,鍍層細膩致密,表麵光潔度高,且均勻性一致性良好;該機實現鍍膜工藝全自動化控製,裝載量大,工作可靠,合格率高,生產成本低,綠色環保。該設備主要廣泛應用於電腦殼、手機殼、家用電器等行業,可鍍製金屬膜、合金膜、複合膜層、透明(半透明)膜、不導電膜、電磁屏蔽膜等。

磁控濺射/真空蒸發複合型鍍膜設備技術參數:

產品型號

磁控濺射/真空蒸發複合型鍍膜設備CY-MSE300S-DC

樣品台

樣品台尺寸

φ185mm

控溫精度

±1

轉速

1-20rpm可調

濺射電流

2~20mA

濺射電壓

1000V

蒸發源

鎢絲籃

*高溫度

1700

精 確控溫

可設置30段升降溫程序,控溫精度為+/-1

真空腔體   

腔體尺寸

φ300mm × 300mm

觀察窗口

φ100mm

腔體材料

不鏽鋼

開啟方式

上頂開式

膜厚監測儀

監測組件

電源

DC 5V±10%),*大電流400mA

頻率分辨率

±0.03Hz

膜厚分辨率

0.0136Å(鋁)

膜厚準確度

±0.5%,取決於過程條件,特別是傳感器的位置,材料應力,溫度和密度

測量速度

100ms-1s/次,可設置

測量範圍

500000Å(鋁)

標準傳感器晶體

6MHz

計算機接口

RS-232/485串行接口(波特率12002400480096001920038400可設置,數據位:8,停止位:1,校驗:無)

模擬輸出

8比特分辨率,PWM脈寬調製輸出(集電極開路或內部5V輸出)

工作環境

溫度0-50,濕度5%-85%RH,不得有冷凝水珠

顯示儀

輸入電源

AC 220V±10%

輸出電源

DC 5V 3A

顯示器

12×2數碼管與LED

通訊端口

RS-485(波特率12002400480096001920038400可設置,數據位:8位,停止位:1 ,奇偶校驗:無)

探頭

適用晶片頻率

6MHz

適用晶片尺寸

Φ14mm

安裝法蘭

CF35

冷卻水管

Φ3mm,長度300mm500mm1000mm

冷卻水壓

<0.3MPa

氣動擋板路管

Φ3mm

烘烤溫度

通水狀態<200,不通水狀態法蘭<100

電氣接口

BCN插座

質量流量計

2路;量程100sccm100sccm(可根據客戶需要定製多路氣路)

真空係統

產品型號

CY-GZK103-A

抽氣接口

KF40

分子泵

CY-600

排氣接口

KF16

前極泵

旋片泵

真空測量

複合真空計

極限真空

1.0E-5Pa

供電電源

AC;220V 50/60Hz

抽氣速率

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  綜合抽氣性能:20分鍾真空度可達: 1.0E-3Pa

可選配件

金、銦、銀、白金等各種靶材

質保

一年保修,終身技術支持。

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