產品列表
  • 小型二合一鍍膜儀 等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,不但可以用於等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或...
  • 小型高真空二合一鍍膜儀 等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,不但可以用於等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或...
  • 小型溫控蒸發鍍膜儀 本小型程序控溫蒸發鍍膜儀可對程序進行設定,並精 確控製溫度在200ºC-1500ºC的範圍內進行變化,在對樣品進行蒸發鍍...
  • 小型蒸發鍍膜儀 本儀器是一款小型蒸發鍍膜儀,蒸發溫度從200℃到1700℃,采用鎢絲籃作為蒸發源,蒸發源外套高純氧化鋁坩堝。樣品台距離蒸...
  • 小型高真空熱蒸發鍍膜儀 本儀器是一款高真空緊湊型熱蒸發鍍膜儀,蒸發溫度從200℃到1700℃,采用鎢絲籃作為蒸發源,蒸發源外套高純氧化鋁坩堝。
  • 磁控濺射/真空蒸發複合型鍍膜設... 磁控濺射/真空蒸發複合型鍍膜設備將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備裏,既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻... 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀(雙膜厚儀) 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻... 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 單靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3...
  • 單靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3...
  • 單靶磁控濺射鍍膜儀(小型) 小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可...
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